§E20.9層

最終更新

site の被覆篩は、切断を局所的に与える射の族を指定する。前層では、そのような切断の整合的な族が一つの切断へ貼り合わさるとは限らない。層は、被覆篩に沿って整合する切断の族が一意に貼り合わさる前層である。小さい site では、前層から普遍的に層を作る層化が存在する。層化は有限極限を保ち、前層の圏から層の圏への反射を与える。本記事では、層と層化を構成し、small-generated site の比較補題を証明する。Grothendieck トポスを導入し、位相空間上の層についてエタール空間と局所定数層の対応を扱う。

1 site の上の層

定義 1.1.VV-小な site(C,J)(\mathcal C,J)の集合の前層PPがJJ-層 (sheaf on a site) であるとは、各対象UUと被覆篩S∈J(U)S\in J(U)に対し、制限写像

P(U)≅Nat⁡(hU,P)⟶Nat⁡(S,P)P(U)\cong\operatorname{Nat}(h_U,P)\longrightarrow\operatorname{Nat}(S,P)

が全単射であることをいう。これらの写像がすべて単射であるとき、PPは分離前層 (separated presheaf) であるという。Nat⁡(S,P)\operatorname{Nat}(S,P)の元をSS上の整合的な族 (matching family) という。

アーベル群の前層は、その台の集合の前層が層であるとき層という。集合とアーベル群の層のなす前層の圏の充満部分圏を、それぞれSh(C,J)\mathbf{Sh}(\mathcal C,J)、Sh(C,J;Ab)\mathbf{Sh}(\mathcal C,J;\mathbf{Ab})と書き、包含をι\iotaと書く。

命題 1.2. 小さい site の台の圏C\mathcal Cが pullback をもち、UUの上の篩SSがVV-小な族(fi:Ui→U)i∈I(f_i:U_i\to U)_{i\in I}で生成されるとする。このとき、前層PPに対し、α↦(α(fi))i\alpha\mapsto(\alpha(f_i))_iは、Nat⁡(S,P)\operatorname{Nat}(S,P)と、すべてのi,ji,jでUi×UUjU_i\times_UU_jへの二つの制限が一致する族(si)∈∏iP(Ui)(s_i)\in\prod_iP(U_i)の集合との全単射である。したがって

P(U)⟶∏iP(Ui)⇉∏i,jP(Ui×UUj)P(U)\longrightarrow\prod_iP(U_i)\rightrightarrows\prod_{i,j}P(U_i\times_UU_j)

が等化子となることは、PPがSSに対する層条件を満たすための必要十分条件である。

証明. 自然変換α\alphaの自然性を二つの射影に適用すると、得られた族は整合的である。逆に整合的な族(si)(s_i)をとり、g=fih:W→Ug=f_ih:W\to Uに対しα(g)=P(h)(si)\alpha(g)=P(h)(s_i)とおく。g=fjh′g=f_jh'でもあるなら、pullback の普遍性から(h,h′):W→Ui×UUj(h,h'):W\to U_i\times_UU_jがある。整合性の等式をこの射に沿って制限すると二つの値が一致する。よってα\alphaは分解によらず、前合成との可換性もこの式から従う。二つの対応は逆である。空の族では両側が一点集合であり、同じ主張が成り立つ。▨

例 1.3.

  1. 最小の位相では制限はP(U)≅Nat⁡(hU,P)P(U)\cong\operatorname{Nat}(h_U,P)だけなので、すべての前層が層である。最大の位相では空篩が被覆なので、層PPの値P(U)P(U)はすべて一点集合である。逆に終前層は層である。
  2. 群GGの一対象圏の前層は右GG-集合であり、最小の位相ではすべて層である。
  3. 加法モノイドN≥0\Nの一対象圏に空でない篩の位相を入れる。前層は自己写像t:P→Pt:P\to Pを備えた集合である。篩Sk={k,k+1,…}S_k=\{k,k+1,\ldots\}はkk上の自由な右N≥0\N-集合なので、Nat⁡(Sk,P)≅P\operatorname{Nat}(S_k,P)\cong Pであり、制限写像はtkt^kである。したがってttの単射性は分離性の、ttの全単射性は層条件の必要十分条件である。全単射ttからx⋅n=tn(x)x\cdot n=t^n(x)(n∈Zn\in\Z)を定めると、層の圏と右Z\Z-集合の圏との同型を得る。ttと可換な写像はt−1t^{-1}とも可換なので、射の対応も互いに逆である。

2 層化

定義 2.1. 小さい site(C,J)(\mathcal C,J)の前層PPに対し、

P†(U)=colim⁡S∈J(U)Nat⁡(S,P)P^\dagger(U)=\operatorname*{colim}_{S\in J(U)}\operatorname{Nat}(S,P)

とおく。添字の順序は包含の逆であり、遷移写像は篩への制限である。これは§E20.8 命題 2.3のVV-小な有向集合であり、余極限は直和の商集合によってとる。(S,α)(S,\alpha)の類を[S,α][S,\alpha]と書く。P(U)≅Nat⁡(hU,P)P(U)\cong\operatorname{Nat}(h_U,P)と、極大篩hUh_Uの成分から余極限への標準写像の合成をθP,U:P(U)→P†(U)\theta_{P,U}:P(U)\to P^\dagger(U)とする。

アーベル群の前層の場合、整合的な族の群を成分ごとの和で定め、余極限をアーベル群の圏でとる。この構成をplus 構成 (plus construction) という。

命題 2.2. 小さい site の前層PPについて、次が成り立つ。

  1. 射f:W→Uf:W\to Uに対し[S,α][S,\alpha]を[f∗S,g↦α(fg)][f^*S,g\mapsto\alpha(fg)]に送る写像はP†P^\daggerを前層にする。P↦P†P\mapsto P^\daggerは関手であり、θ:P→P†\theta:P\to P^\daggerはPPについて自然である。
  2. x∈P†(U)x\in P^\dagger(U)に対し、ある被覆篩SSがあり、すべてのf∈Sf\in Sについてxxの制限はθ\thetaの像に入る。
  3. P†P^\daggerは分離前層である。
  4. PPが分離前層ならP†P^\daggerは層である。
  5. PPが層ならθP\theta_Pは同型である。
  6. plus 構成は有限極限を保つ。

証明.主張 (1)と主張 (2)の証明は演習とする(問題 11.1)。有向余極限の具体的な表示により、二つの代表が同じ元を与えるための必要十分条件は、共通の被覆部分篩に制限すると一致することである。

主張 (3)を示す。x=[Sα,α]x=[S_\alpha,\alpha]とy=[Sβ,β]y=[S_\beta,\beta]が被覆篩RRの各射に沿って一致するとする。各f:V→Uf:V\to U、f∈Rf\in Rについて、f∗Sα∩f∗Sβf^*S_\alpha\cap f^*S_\betaの被覆部分篩TfT_fでα(ft)=β(ft)\alpha(ft)=\beta(ft)となるものをとる。添字はVV-小なので、この選択は集合個の選択である。合成ftftの生成する篩WWはSα∩SβS_\alpha\cap S_\betaに含まれ、f∗W⊇Tff^*W\supseteq T_fである。位相の推移性からWWは被覆である。WW上で二つの代表が一致するのでx=yx=yであり、分離性を得る。

主張 (4)を示す。PPが分離前層ならθP\theta_Pは各点で単射である。実際、s,t∈P(U)s,t\in P(U)のθP\theta_Pによる像が一致するなら、s,ts,tはある被覆篩上で一致し、PPの分離性により等しい。被覆篩SS上の整合族xf∈P†(dom⁡f)x_f\in P^\dagger(\operatorname{dom}f)をとる。各ffに主張 (2)を適用し、被覆篩TfT_fの各ttに対しxf∣t=θP(sf,t)x_f|_t=\theta_P(s_{f,t})となる切断をとる。合成ftftの生成する篩WWは位相の推移性により被覆である。ft=f′t′ft=f't'なら二つの像はともにxftx_{ft}であり、θP\theta_Pの単射性からsf,t=sf′,t′s_{f,t}=s_{f',t'}である。さらにssが前合成と可換であることも、像の整合性とθP\theta_Pの単射性から従う。したがって切断はWW上のPPの整合族ssを定める。[W,s][W,s]のffに沿う制限とxfx_fはTfT_f上で一致するので、既に示したP†P^\daggerの分離性により一致する。一意性も分離性による。これでP†P^\daggerが層であることを得る。

主張 (5)を示す。PPが層なら各写像P(U)→Nat⁡(S,P)P(U)\to\operatorname{Nat}(S,P)は全単射であり、これらは制限と可換である。その余極限もP(U)P(U)なのでθP\theta_Pは同型である。

固定したSSに対しNat⁡(S,−)\operatorname{Nat}(S,-)は Hom 関手なので極限を保つ(§E9.11 命題 2.1)。有向余極限は集合の有限極限と交換する(§E9.13 定理 3.2)。前層の極限は各点で計算されるので、両結果を合成すると plus 構成が空図式を含む有限極限を保つことを得る。アーベル群の場合、忘却関手が有限極限とフィルター余極限を作ること(§E9.13 命題 5.1)により、同じ台集合の議論が成り立つ。分離性と貼り合わせの証明も台集合で成立し、貼り合わせは一意性によって加法と可換である。▨

定理 2.3. 小さい site(C,J)(\mathcal C,J)に対し、aP=P††aP=P^{\dagger\dagger}とηP=θP†θP\eta_P=\theta_{P^\dagger}\theta_Pは、包含ι:Sh(C,J)→[Cop,Set]\iota:\mathbf{Sh}(\mathcal C,J)\to[\mathcal C^{\mathrm{op}},\mathbf{Set}]の左随伴aaとその単位を与える。余単位は同型であり、層の圏は反射的部分圏である。

層の圏はVV-小な極限と余極限をもち、極限は前層の各点極限、余極限は前層の余極限の層化である。層化aaは有限極限を保つ。アーベル群の前層と層についても同じ主張が成り立つ。

証明.命題 2.2 (3)と命題 2.2 (4)によりaPaPは層である。層FFへの射u:P→Fu:P\to Fに plus 構成を適用し、F†≅FF^\dagger\cong Fを使うとP†→FP^\dagger\to Fを得る。もう一度適用してaP→FaP\to Fを得て、自然性によりηP\eta_Pとの合成はuuである。

P†→FP^\dagger\to Fの二つの射がPP上で一致するなら、P†P^\daggerの各元は被覆上でPPの像に入るため、その二つの像は局所的に一致する。FFの分離性から二つの射は等しい。この議論を二度用いるとaP→FaP\to Fの一意性を得る。したがってηP\eta_Pは普遍射であり、plus 構成の式が普遍射の族を与えるので随伴を得る。前層PPが層FFのとき、二つのθ\thetaは同型なので余単位も同型である。

前層の極限L=lim⁡iFiL=\lim_iF_iについて、L(U)→Nat⁡(S,L)L(U)\to\operatorname{Nat}(S,L)は各FiF_iの同型Fi(U)→Nat⁡(S,Fi)F_i(U)\to\operatorname{Nat}(S,F_i)の極限である。よってLL自身が層である。前層の余極限QQの層化aQaQについては、随伴と余極限の普遍性からHom⁡(aQ,F)≅lim⁡iHom⁡(Fi,F)\operatorname{Hom}(aQ,F)\cong\lim_i\operatorname{Hom}(F_i,F)を得る。前層の完備性・余完備性は§E9.9 系 2.7による。層化aaが有限極限を保つことは、命題 2.2 (6)を二度適用して得る。アーベル群でも同じ普遍性の議論が成り立つ。▨

補題 2.4. 小さい site の前層PPの層化単位η:P→aP\eta:P\to aPは次の性質をもつ。aP(U)aP(U)の各元は、ある被覆篩上でPPの切断の像となる。またs,t∈P(U)s,t\in P(U)について、η(s)=η(t)\eta(s)=\eta(t)となるための必要十分条件は、ある被覆篩のすべての射に沿ってs,ts,tの制限が等しくなることである。

証明. 一回の plus 構成では、局所的な表示は命題 2.2 (2)による。元の切断の像の一致は、余極限の代表の一致、すなわち共通の被覆篩上での一致である。二回の plus 構成について同じ性質を続けて適用する。二段の被覆の合成が被覆であることは位相の推移性による。これで層化について両性質を得る。▨

例 2.5. 空でない篩を被覆とするBN≥0B\Nでは、自己写像t:P→Pt:P\to Pを備えた前層の plus 構成は

P†(∗)=colim⁡(P→tP→tP→⋯ )P^\dagger(*)=\operatorname*{colim}(P\xrightarrow{t}P\xrightarrow{t}P\to\cdots)

である。Nat⁡(Sk,P)≅P\operatorname{Nat}(S_k,P)\cong Pの同一視の下でSk+1S_{k+1}への制限がttだからである。

表現可能前層h∗=N≥0h_*=\Nではt(x)=x+1t(x)=x+1であり、段kkの元xxをx−kx-kに送る写像が余極限とZ\Zの全単射を与える。作用は平行移動となるので、この plus 構成は既に層であり、単位は包含N≥0→Z\N\to\Zである。

二元集合{0,1}\{0,1\}にt(0)=t(1)=0t(0)=t(1)=0を入れると、二元は次の段で一致する。したがって plus 構成も層化も一点集合である。この前層は分離的ではない。

3 随伴の合成

補題 3.1. 随伴F:A⇄B:GF:\mathcal A\rightleftarrows\mathcal B:GとF′:B⇄C:G′F':\mathcal B\rightleftarrows\mathcal C:G'が与えられているとき、F′F⊣GG′F'F\dashv GG'である。Hom の対応は

Hom⁡(F′FA,C)≅Hom⁡(FA,G′C)≅Hom⁡(A,GG′C)\operatorname{Hom}(F'FA,C)\cong\operatorname{Hom}(FA,G'C)\cong\operatorname{Hom}(A,GG'C)

である。元の単位をη,η′\eta,\eta'とすると、合成の単位はG(ηFA′)ηAG(\eta'_{FA})\eta_Aである。

証明. 証明は演習とする(問題 11.3 (1))。▨

4 small-generated site と比較補題

定義 4.1. 局所VV-小な site(C,J)(\mathcal C,J)に、VV-小な充満部分圏i:D↪Ci:\mathcal D\hookrightarrow\mathcal Cを与える。各C∈CC\in\mathcal Cに対し、始域がD\mathcal Dの対象であるすべての射D→CD\to Cが生成する篩が被覆であるとき、(C,J)(\mathcal C,J)を small-generated site (small-generated site) という。以下、このD\mathcal Dを固定する。

大きいC\mathcal C上の個々の前層についても、各被覆篩の整合的な族が一意に貼り合わさるという層条件を課す。前層や自然変換はそれぞれ構成として与え、全体が集合であるとは仮定しない。

定理 4.2. small-generated site(C,J)(\mathcal C,J)と指定した小さい充満部分圏D\mathcal Dをとる。このとき、D∈DD\in\mathcal Dの上のD\mathcal Dの篩SSが被覆であることを、SSがC\mathcal Cで生成する篩が被覆であることによって定めると、Grothendieck 位相JDJ_{\mathcal D}を得る。

制限i∗i^*と、D\mathcal D上の層FFに対する延長

R(F)(C)=Nat⁡(hC∣D,F)R(F)(C)=\operatorname{Nat}(h_C|_{\mathcal D},F)

は互いに準逆である。R(F)R(F)の射への対応は表現可能前層の射との前合成である。自然同型F≅i∗RFF\cong i^*RFは米田の対応であり、C\mathcal C上の層PPの自然同型P≅R(i∗P)P\cong R(i^*P)はs↦(f↦P(f)s)s\mapsto(f\mapsto P(f)s)である。これらの主張は集合の層とアーベル群の層の両方で成り立つ。

証明. 篩QQの、始域がD\mathcal Dに属する射だけから生成される部分篩をQDQ_{\mathcal D}と書く。QQがCCの被覆ならQDQ_{\mathcal D}も被覆である。実際、f:U→Cf:U\to C、f∈Qf\in Qに対し、UUを覆うD\mathcal Dからの射t:D→Ut:D\to Uはft∈QDft\in Q_{\mathcal D}を満たす。よってf∗QDf^*Q_{\mathcal D}は被覆であり、推移性をQQに適用すると主張を得る。

D,D′∈DD,D'\in\mathcal Dとg:D′→Dg:D'\to Dに対し、g∗⟨S⟩g^*\langle S\rangleのD\mathcal D上の跡はg∗Sg^*Sである。ここで⟨S⟩\langle S\rangleはC\mathcal Cでの生成篩であり、等式は充満性による。被覆篩を生成部分篩に置き換えても被覆であることから、⟨S⟩\langle S\rangleが被覆なら⟨g∗S⟩\langle g^*S\rangleも被覆となる。極大篩の公理は生成条件から従う。推移性について、SSがJDJ_{\mathcal D}の被覆で、SSの各射によるTTの引き戻しがJDJ_{\mathcal D}の被覆なら、⟨S⟩\langle S\rangleの各射はSSの射を通るので、その射による⟨T⟩\langle T\rangleの引き戻しは被覆である。JJの推移性により⟨T⟩\langle T\rangleは被覆となる。よってJDJ_{\mathcal D}は位相である。

PPをC\mathcal C上の層とする。S⊆hD∣DS\subseteq h_D|_{\mathcal D}上のi∗Pi^*Pの整合族ssは、⟨S⟩\langle S\rangleの射f=atf=at(a∈Sa\in S)へP(t)saP(t)s_aを対応させる族に延びる。二つの因数分解at=buat=buがあれば、始域をD\mathcal Dの対象からの射で覆う。その各射に沿って制限すると、充満性と元の整合性から二つの値が一致する。PPの分離性により始域全体でも一致する。同じ理由で延長は自然である。⟨S⟩\langle S\rangleが被覆ならPPの層条件によって一意に貼り合わさるので、i∗Pi^*Pは層である。

FFをD\mathcal D上の層とし、Q∈J(C)Q\in J(C)上のRFRFの整合族xfx_fをとる。各g:D→Cg:D\to Cに対し、g∗Qg^*QのD\mathcal D上の跡SgS_gはJDJ_{\mathcal D}の被覆である。t:E→Dt:E\to D、t∈Sgt\in S_gにxgt(idE)∈F(E)x_{gt}(\mathrm{id}_E)\in F(E)を対応させると整合族になる。これを貼り合わせてyg∈F(D)y_g\in F(D)を得る。a:D′→Da:D'\to DについてF(a)ygF(a)y_gとygay_{ga}はSgaS_{ga}上で同じ値をもつので等しい。したがってg↦ygg\mapsto y_gはhC∣D→Fh_C|_{\mathcal D}\to Fを定める。この元のQQ上の制限はxfx_fである。実際、h:D→dom⁡fh:D\to\operatorname{dom}fに対する値はyfhy_{fh}であり、fh∈Qfh\in Qなので貼り合わせの定義からxf(h)x_f(h)となる。一意性は各SgS_g上の分離性による。よってRFRFは層である。

D∈DD\in\mathcal Dでは充満性からhD∣Dh_D|_{\mathcal D}はD\mathcal Dの表現可能前層であり、米田の補題によりRF(D)≅F(D)RF(D)\cong F(D)を得る。一方、層PPと族sD∈P(D)s_D\in P(D)(D→CD\to Cについて自然)に対し、始域がD\mathcal Dの対象である射D→CD\to C全体が生成する被覆篩へ、PPの制限を用いて族(sD)(s_D)を延長する。先に用いたD\mathcal Dによる始域の被覆と分離性によって、延長は因数分解によらない。PPの層条件が唯一のs∈P(C)s\in P(C)を与える。この貼り合わせへの対応がP(C)→R(i∗P)(C)P(C)\to R(i^*P)(C)の逆である。両同型の自然性は制限と評価の式から従う。

D\mathcal Dと各 Hom はVV-小なので、RF(C)RF(C)はVV-小な積の部分集合である。層の射もD\mathcal D上の自然変換から一意に延長される。D\mathcal D上の自然変換の集合によって Hom を記述すると、層の圏はSh(D,JD)\mathbf{Sh}(\mathcal D,J_{\mathcal D})で具体的に表示される。アーベル群では全式を成分ごとの加法で用い、貼り合わせの一意性から各同型が準同型になる。▨

系 4.3. small-generated site と指定したD\mathcal Dに対し、個々の前層PPの層化は

aCP=R(aD(P∣D))a_{\mathcal C}P=R(a_{\mathcal D}(P|_{\mathcal D}))

で与えられる。この構成は層への射に関する普遍性をもち、有限極限を保つ。

証明.D\mathcal D上の前層FFに対し、射P→RFP\to RFは射P∣D→FP|_{\mathcal D}\to Fと一対一に対応する。逆向きの対応は、s∈P(C)s\in P(C)を(g:D→C↦αD(P(g)s))(g:D\to C\mapsto\alpha_D(P(g)s))に送る式である。米田の評価が逆であり、両対応は合成について自然である。比較補題のQ≅R(Q∣D)Q\cong R(Q|_{\mathcal D})を層QQに用い、小さい site の層化の随伴を合成すると、所望の普遍性を得る。

制限は各点極限を保ち、aDa_{\mathcal D}は有限極限を保つ。RRは各値で Hom 関手なので極限を保つ。したがって合成は有限極限を保つ。大きいC\mathcal Cの被覆篩全体を添字にする余極限は用いない。▨

例 4.4. 位相空間の開集合の基底D\mathcal Dを充満部分圏とすると、各開集合は基底の元で覆われる。比較補題により、基底上の層から開集合全体の層を、基底の元の上の切断の整合的な族によって復元することができる。

VV-小な離散集合全体の圏に、共同全射族が生成する篩を被覆とする位相を入れる。一点集合の充満部分圏が生成するので small-generated であり、その誘導位相は最小の位相である。集合AAの延長はC↦ACC\mapsto A^Cなので、層の圏はSetV\mathbf{Set}_Vと同値である。台の圏は本質的にVV-小ではない。もし小さい代表集合があれば、代表の台集合の直和の冪集合は、それらすべてより大きい濃度をもち、なおVVの元であるので代表性に反する。

スキームの small fppf site もこの構成の適用例である。固定したスキームをアフィン開集合で覆い、その上の有限表示の平坦代数を表示の係数の集合によって代表させると小さい族を得る。局所有限表示の対象はそのようなアフィン開集合で覆われるので、小さい充満部分 site が生成する。ここで用いる有限表示とアフィン被覆の性質はスキームの構成についての事実であり、比較補題そのものの仮定にはスキームを含めない。

5 Grothendieck トポスと基本構成

定義 5.1.VV-小な site 上の集合の層の圏との圏同値をデータとして備えた圏を Grothendieck トポス (Grothendieck topos) という。この圏同値のデータをE\mathcal Eの表示 (presentation of a topos) という。表示には両向きの関手と、合成を恒等関手へ結ぶ自然同型を含める。

命題 5.2.E\mathcal Eを小さい site(C,J)(\mathcal C,J)によって表示された Grothendieck トポスとする。このとき、次が成り立つ。

  1. E\mathcal Eは小さい極限と余極限をもち、余極限は前層の余極限の層化によって計算される。
  2. 部分対象分類子Ω\OmegaのCCにおける値は、JJ-閉篩の集合である。篩SSがJJ-閉 (J-closed sieve) であるとは、f∗Sf^*Sが被覆ならf∈Sf\in Sとなることをいう。真を与える射1→Ω1\to\Omegaは極大篩を選ぶ。
  3. 層の射f:F→Gf:F\to Gがエピ射であることは、G(U)G(U)の各切断がある被覆篩上でffに沿って持ち上がるための必要十分条件である。エピ射は引き戻しで保たれる。
  4. エピ射はその核対の余等化子である。
  5. (ahC)C∈C(ah_C)_{C\in\mathcal C}は小さい生成族である。
  6. 指数対象は(GF)(C)=Hom⁡E(ahC×F,G)(G^F)(C)=\operatorname{Hom}_{\mathcal E}(ah_C\times F,G)で与えられる。
  7. 部分対象は小さい任意の和をもち、有限交わりはその和に分配する。
  8. 同値関係は有効である。
  9. 小さい余極限は引き戻しで保たれる。
  10. 小さい余積は互いに素である。

証明.主張 (1)を示す。極限と余極限は定理 2.3による。以後、指定した表示の層の圏で構成する。

主張 (2)を示す。篩SSに対し、S‾={f∣f∗S は被覆}\overline S=\{f\mid f^*S\text{ は被覆}\}とおく。位相の引き戻しと推移性の公理から、これは篩であり、S⊆S‾S\subseteq\overline S、S‾‾=S‾\overline{\overline S}=\overline S、g∗S‾=g∗S‾g^*\overline S=\overline{g^*S}である。たとえば二重閉包について、f∗S‾f^*\overline Sが被覆なら、その各射ttに対し(ft)∗S(ft)^*Sが被覆であるので、推移性からf∗Sf^*Sは被覆となる。したがって閉篩は引き戻しで閉じ、Ω\Omegaは前層となる。

被覆篩QQ上の整合的な閉篩の族(Sf)f∈Q(S_f)_{f\in Q}をとる。射fgfg(f∈Q,g∈Sff\in Q,g\in S_f)の生成する篩をRRとし、R‾\overline Rをとる。f∈Qf\in Qに対しf∗R=Sff^*R=S_fである。包含Sf⊆f∗RS_f\subseteq f^*Rは構成による。逆にfh=agfh=ag、a∈Q,g∈Saa\in Q,g\in S_aなら、整合性からh∗Sf=g∗Sah^*S_f=g^*S_aであり、右辺は恒等射を含むのでh∈Sfh\in S_fである。したがってf∗R‾=Sff^*\overline R=S_fとなる。一意性について、閉篩の所属条件は被覆篩上で判定することができる。実際f∗Qf^*Qのすべての射ttについてftftが閉篩に入れば、その引き戻しは被覆を含み、閉性からff自身も入る。よってΩ\Omegaは層である。

部分層A⊆FA\subseteq Fに対し、s∈F(C)s\in F(C)を篩

χA(s)={f:D→C∣s∣f∈A(D)}\chi_A(s)=\{f:D\to C\mid s|_f\in A(D)\}

へ送る。AAは層なのでこの篩は閉じている。制限との可換性は式から従い、ssがA(C)A(C)に属することはχA(s)=hC\chi_A(s)=h_Cと同じである。したがってAAはF→χAΩF\xrightarrow{\chi_A}\Omegaによる真の射の引き戻しである。逆にこの引き戻し条件を満たす射は、各ffに対する所属条件によって同じ篩を与えるので一意である。得られた引き戻しと分類射の一意性が部分対象分類子の普遍性である。

主張 (3)を示す。射f:F→Gf:F\to Gに対し、局所的にffの像に入る切断全体をI⊆GI\subseteq Gとする。引き戻しと被覆の推移性からIIは部分層である。局所的に全射な射はエピ射である。実際、その射との合成が等しい二つの射は、各切断の局所的な持ち上げで等しく、終域の分離性から等しい。よってF→IF\to Iはエピ射である。もしffがエピ射なら、χI\chi_Iと真を選ぶ定値射G→ΩG\to\Omegaはffとの合成が等しいため一致し、I=GI=Gである。これでエピ射の判定を得る。エピ射の引き戻しF×GK→KF\times_GK\to Kについて、KKの切断の局所的な持ち上げは、GGでの像のFFへの局所的な持ち上げともとの切断の組である。

主張 (4)を示す。エピ射ffの核対上で二つの合成が等しい射u:F→Hu:F\to Hをとる。GGの切断を局所的に持ち上げ、uuを適用する。異なる持ち上げの組は核対の切断なので、得る値は一致する。層条件により一意に貼り合わせるとG→HG\to Hを得る。したがってffは核対の余等化子である。

主張 (5)を示す。各射ahC→Fah_C\to Fは随伴と米田の補題によりF(C)F(C)の元と一対一に対応する。異なる二つの層の射はあるCCのある切断で異なるので、(ahC)(ah_C)は生成族である。

主張 (6)を示す。指数対象の構成では、層化の左完全性と随伴から

Hom⁡E(ahC×F,G)≅Nat⁡(hC×F,G)\operatorname{Hom}_{\mathcal E}(ah_C\times F,G) \cong\operatorname{Nat}(h_C\times F,G)

を得る。右辺の元は、各g:D→Cg:D\to Cとs∈F(D)s\in F(D)にG(D)G(D)の元を自然に対応させる規則である。被覆篩上でこの規則が与えられた場合、固定した(g,s)(g,s)に対し引き戻し被覆上の値をGGで貼り合わせると唯一の値を得る。一意性からその値はDDの射について自然である。したがって表示のGFG^Fは層である。K→GFK\to G^FとK×F→GK\times F\to Gの対応は、前者のk∈K(C)k\in K(C)の像を(idC,s)(\mathrm{id}_C,s)に評価する写像と、g:D→Cg:D\to Cに沿ってkkを制限して評価する逆向きの写像である。この二つが互いに逆で自然なので、指数対象の普遍性を得る。

主張 (7)を示す。部分層(Ai⊆F)(A_i\subseteq F)の和は、ある被覆上の各切断がいずれかのAiA_iに入る切断全体である。被覆の推移性が貼り合わせに対する閉性を与え、この記述から最小の上界であることが従う。部分層BBとの交わりについて、BBに入る切断の制限もBBに入るので

B∩⋁iAi=⋁i(B∩Ai)B\cap\bigvee_iA_i=\bigvee_i(B\cap A_i)

である。部分層全体は∏CP(F(C))\prod_C\mathcal P(F(C))の部分集合としてVV-小なので、部分対象の任意の集合もこの構成の範囲に入る。

主張 (8)を示す。同値関係R⊆F×FR\subseteq F\times Fに対し、前層の各点商P(C)=F(C)/R(C)P(C)=F(C)/R(C)を作りQ=aPQ=aPとする。商の普遍性と層化の随伴によりQQは余等化子である。F(C)F(C)の二元がQ(C)Q(C)で等しいための必要十分条件は、補題 2.4により局所的にRRで関係づけられることである。RRは部分層なので、この条件はもとの二元がR(C)R(C)に属することと同じである。よってR=F×QFR=F\times_QFであり、同値関係は有効である。

主張 (9)を示す。引き戻しの余極限保存は、次の右随伴によって示される。f:F→Gf:F\to GとX→FX\to Fに対し、ΠfX\Pi_fXのCCにおける切断は、g∈G(C)g\in G(C)とFF上の射ahC×GF→Xah_C\times_G F\to Xの組とする。指数対象と同じ貼り合わせの議論により、これはGG上の層である。評価と制限によって

Hom⁡/G(Y,ΠfX)≅Hom⁡/F(Y×GF,X)\operatorname{Hom}_{/G}(Y,\Pi_fX)\cong\operatorname{Hom}_{/F}(Y\times_GF,X)

を得る。したがって引き戻しは左随伴として余極限を保つ。

主張 (10)を示す。前層の余積の異なる成分の引き戻しは空前層であり、各入射はモノ射である。層化は有限極限を保つので、層の余積でも各入射はモノ射、異なる成分の引き戻しは始対象となる。▨

命題 5.3. Grothendieck トポスE\mathcal EのVV-小な充満部分圏A\mathcal Aが生成族を含み、有限極限で閉じているとする。このとき、共同エピ射族が生成する篩を被覆とする位相をA\mathcal Aに入れると、

N:E⟶Sh(A),N(E)=Hom⁡E(−,E)∣AN:\mathcal E\longrightarrow\mathbf{Sh}(\mathcal A),\qquad N(E)=\operatorname{Hom}_{\mathcal E}(-,E)|_{\mathcal A}

は、層PPの元の圏に沿う余極限

L(P)=colim⁡(A,s)∈∫PAL(P)=\operatorname*{colim}_{(A,s)\in\int P}A

を準逆とする圏同値を与える。

証明.A\mathcal Aの族(Ai→A)(A_i\to A)が共同エピ射であることは、∐iAi→A\coprod_iA_i\to Aがエピ射であることを意味する。エピ射の引き戻し安定性と余極限の引き戻し安定性から、被覆族の引き戻しは再び共同エピ射である。A\mathcal Aが有限極限で閉じているので、引き戻しの対象もA\mathcal Aにある。共同エピ射族の合成は共同エピ射なので、生成篩は位相の公理を満たす。

共同エピ射族に沿う射Ai→EA_i\to Eが重なりで一致するなら、∐iAi→E\coprod_iA_i\to Eは∐iAi→A\coprod_iA_i\to Aの核対を等化する。余積の引き戻し安定性により核対は各Ai×AAjA_i\times_AA_jで覆われるので、重なりの一致が核対全体の一致を与える。エピ射の有効性から一意なA→EA\to Eに降りる。したがってN(E)N(E)は層である。

A\mathcal Aは小さく、各P(A)P(A)も小さいので∫P\int Pは小さい。余極限の普遍性と米田の対応により

Hom⁡E(LP,E)≅Nat⁡(P,N(E))\operatorname{Hom}_{\mathcal E}(LP,E)\cong\operatorname{Nat}(P,N(E))

を得る。単位はs∈P(A)s\in P(A)を余極限への標準射A→LPA\to LPに送り、余単位はすべての射A→EA\to Eを評価する射LN(E)→ELN(E)\to Eである。

生成族の性質から、任意のEEに対する族(A→E)A∈A(A\to E)_{A\in\mathcal A}は共同エピ射である。実際、その局所的な像I⊆EI\subseteq Eが真の部分対象なら、χI\chi_Iと真の射は異なる。生成族からのある射がこの二射を区別するはずだが、その射自身が族に含まれ像はIIに入るので矛盾する。したがって余単位はエピ射である。

任意の図式の余極限は、対象の余積を射の余積からの二つの射で余等化したものである。この余等化子は、生成関係と逆関係の有限合成による同値関係の商である。層の表示においては、前層の商の等式が有限の関係の列で与えられ、層化後の等式は局所的にそのような列で与えられる(補題 2.4)。したがって余極限への二つの局所表示が等しいことは、被覆上で有限個の図式の射の関係によって結ばれることで判定される。この記述は指定した層の表示からE\mathcal Eに移すことができる。

層PPの単位P→N(LP)P\to N(LP)を調べる。A→LPA\to LPをとる。余極限への対象の余積の射はエピ射なので、引き戻しと、各引き戻し対象をA\mathcal Aの対象から覆う操作により、AAを共同エピ射族(Bj→A)(B_j\to A)で覆い、各制限をBj→Aj→LPB_j\to A_j\to LPの形にすることができる。Aj→LPA_j\to LPはあるsj∈P(Aj)s_j\in P(A_j)の標準射であるため、制限はP(Bj)P(B_j)の元の像である。したがって単位は局所的に全射である。

s,t∈P(A)s,t\in P(A)の単位による像が一致したとする。上の余極限の等式の記述により、被覆上で両表示を有限個の元の圏の射の関係によって結ぶことができる。各中間の対象をA\mathcal Aの対象で覆い、有限回の引き戻しによって同じ被覆へ細分する。一つの関係は、元の圏の射u:(B,b)→(C,c)u:(B,b)\to(C,c)、すなわちP(u)c=bP(u)c=bの制限である。したがって同じ始域からの二つの表示はPPで等しい。有限列の両端も等しく、s,ts,tは被覆上で一致する。PPの分離性からs=ts=tである。よって単位は単射である。局所的な全射性と単射性から得る局所的な逆像は重なりで一致し、PPの層条件によって貼り合わさるので、単位は同型である。

余単位について、A→EA\to EとB→EB\to Eの像が等しくなる関係を考える。引き戻しA×EBA\times_E BをA\mathcal Aの対象CCからの射で覆う。各CCは元の圏∫N(E)\int N(E)の二つの射C→A,C→BC\to A,C\to Bを与えるので、その関係はLN(E)LN(E)で既に成立する。上の局所表示とエピ性により、余単位の核対の二つの射は一致する。よって余単位はモノ射でもある。エピ射は核対の余等化子なので、モノ射でもある余単位は同型である。単位と余単位は随伴の自然変換として構成されており、これで具体的な準逆を得る。▨

6 位相空間の層

定義 6.1. 位相空間XXに対し、PSh(X)=[O(X)op,Set]\mathbf{PSh}(X)=[\mathcal O(X)^{\mathrm{op}},\mathbf{Set}]、PSh(X;Ab)=[O(X)op,Ab]\mathbf{PSh}(X;\mathbf{Ab})=[\mathcal O(X)^{\mathrm{op}},\mathbf{Ab}]と書く。通常の層条件を満たす前層の充満部分圏をSh(X)\mathbf{Sh}(X)、Sh(X;Ab)\mathbf{Sh}(X;\mathbf{Ab})と書き、包含をι\iotaと書く。

定理 6.2. 位相空間XXの開集合の site では、集合およびアーベル群の層の圏は、それぞれ通常のSh(X)\mathbf{Sh}(X)およびSh(X;Ab)\mathbf{Sh}(X;\mathbf{Ab})と充満部分圏として一致する。

証明. 被覆篩SSに属する開集合の族は、その篩自身を生成する開被覆である。開集合の pullback は交わりなので、命題 1.2により篩の層条件は開被覆の貼り合わせ条件になる。逆に任意の開被覆が生成する篩は被覆篩なので、同じ命題が逆向きを与える。アーベル群でも台集合上の同じ条件である。▨

注意 6.3.XXとその開集合の集合はVVの元である。前層の値もVVの元であり、O(X)\mathcal O(X)は小さいので、前層の圏と層の圏は局所VV-小である。しかしこれらの圏自体はVV-小ではない。各x∈Vx\in Vに対し、すべての開集合で一点集合{x}\{x\}を値とする層をとることができる。アーベル群の場合はxxを零元とする。これらの層の全体がVVの元なら、その値の元を集めることでVVのすべての元を含むVVの元を得る。これはV∉VV\notin Vに反する。VVが集合全体の類の場合には全集合の不存在に反する。空空間でも同じ議論である。

一方、層の構成に現れる次の個々の集合はVVの元である。茎は∐U∋xP(U)\coprod_{U\ni x}P(U)の商であり、エタール空間の台は芽の直和である。台の冪集合の部分集合として位相を入れ、切断の集合は写像集合の部分集合としてとる。順像の値は元の値、逆像の前層の値は小さい余極限であり、エタール空間の引き戻しは積の部分集合である。

点ごとの群(Ax)(A_x)の積を用いる Godement の層の値は∏x∈UAx\prod_{x\in U}A_xであり、小さい添字の積である。入射的埋め込みに用いる(Q/Z)Hom⁡Z(A,Q/Z)(\Q/\Z)^{\operatorname{Hom}_{\Z}(A,\Q/\Z)}も小さい。テンソル積は自由加群の商、Ext の値は Hom の部分商、誘導加群と誘導集合は積と商から得られる。基本群と付随被覆も、道の写像集合、商、積によって作られる。連続写像の集合C(W,T)C(W,T)はP(W×T)\mathcal P(W\times T)の部分集合である。いずれも§E9.1 命題 2.3によりVVの元となる。

層化・逆像・点ごとの積の値は式で与えられているので、層全体にわたる選択を要しない。

注意 6.4. 位相空間T∈VT\in Vについて、XXの開集合WWに連続写像の集合C(W,T)C(W,T)を対応させる層をhTh_Tと書く。これはTop(−,T)\mathbf{Top}(-,T)の開集合の圏への制限であり、射影X×T→XX\times T\to Xの切断の層である(§E20.1 命題 1.6)。一方、開集合U⊆XU\subseteq Xに対する表現可能前層hUh_Uは、包含U↪XU\hookrightarrow Xの切断の層である。開集合UUを位相空間と見てT=UT=UとおいたhTh_Tは用いない。hUh_Uは表現可能前層を指す。

TTが可換位相群ならhTh_Tは各点の演算でアーベル群の層となる。連続準同型は層の射を与える。離散集合SSについてはhS=SXh_S=S_Xであり、指数列のhR→hU⁡(1)h_{\R}\to h_{\Uni(1)}は連続群準同型の誘導する射である。

命題 6.5. 位相空間XXの集合の前層PPについて、次の条件は同値である。アーベル群の前層についても台集合に同じ条件を課すことができる。

  1. PPは層である。
  2. 開集合UUの任意の小さい開被覆(Ui)i∈I(U_i)_{i\in I}に対し、P(U)→∏iP(Ui)⇉∏i,jP(Ui∩Uj)P(U)\to\prod_iP(U_i)\rightrightarrows\prod_{i,j}P(U_i\cap U_j)は等化子である。空の被覆も含む。
  3. UUの任意の被覆篩SSに対し、P(U)→Nat⁡(S,P)P(U)\to\operatorname{Nat}(S,P)は全単射である。

証明. 証明は演習とする(問題 11.2 (1))。▨

7 茎と極限

命題 7.1. 位相空間XXとx∈Xx\in Xに対し、次が成り立つ。集合とアーベル群の両場合を含む。

  1. 茎をとる対応P↦PxP\mapsto P_xとφ↦φx\varphi\mapsto\varphi_xは前層の圏から値の圏への関手であり、PxP_xはxxの開近傍の包含の逆順に沿う余極限である。
  2. 前層の茎の関手は有限極限を保つ。
  3. 層の茎の関手は、集合またはアーベル群AAに摩天楼層x∗Ax_*Aを対応させる関手の左随伴である。したがって層の圏の小さい余極限を保つ。

証明. 茎の余極限表示と関手性は、集合では§E9.13 命題 4.1、アーベル群では§E20.1 命題 4.5による。開近傍は有限交わりで細分されるので、添字は有向である。有限極限の保存は集合での§E9.13 命題 4.1を用いる。アーベル群では忘却関手が有限極限とフィルター余極限を作るため、標準射の台の写像が集合の場合の全単射となり、準同型としても同型である。

§E20.1 命題 5.7 (5)により、Hom⁡(F,x∗A)≅Hom⁡(Fx,A)\operatorname{Hom}(F,x_*A)\cong\operatorname{Hom}(F_x,A)とその両変数の自然性を得る。この自然な全単射により随伴を得る。左随伴の余極限保存から最後の主張を得る。▨

命題 7.2. 位相空間XX上の集合またはアーベル群の層の小さい図式の極限は、前層として各開集合で計算した極限である。とくに層の圏は完備であり、包含ι\iotaは極限を保つ。終対象はすべての開集合で一点集合または零群をとる層である。層の茎の関手は有限極限を保つ。

証明.定理 6.2と定理 2.3により、開集合の site の一般定理を適用することができる。積の制限写像は各成分の制限であり、§E20.1 命題 5.7 (1)の積と同じである。茎の有限極限保存は命題 7.1 (2)による。▨

例 7.3.X=RX=\R、Uk=(−1/k,1/k)U_k=(-1/k,1/k)(k≥1k\ge1)とする。このとき、hUkh_{U_k}は包含Uk↪XU_k\hookrightarrow Xの切断の層であり、W⊆UkW\subseteq U_kなら一点、それ以外なら空集合を値とする。開集合WWがすべてのUkU_kに含まれるなら、W⊆{0}W\subseteq\{0\}なのでW=∅W=\varnothingである。したがって∏khUk\prod_kh_{U_k}は空でない開集合で空集合、空集合で一点集合をとる。その零点の茎は空集合である。

一方、各(hUk)0(h_{U_k})_0は一点集合なので、その積も一点集合である。よって茎の関手は無限積を保たない。

8 茎による判定

命題 8.1. 位相空間XX上の集合またはアーベル群の層の射φ:F→G\varphi:F\to Gについて、次が成り立つ。

  1. すべてのφx\varphi_xが全単射であることは、φ\varphiが同型であるための必要十分条件である。二つの射がすべての茎で一致すれば、その二つの射は等しい。
  2. すべてのφU\varphi_Uが単射であることは、φ\varphiがモノ射であるための必要十分条件である。すべてのφx\varphi_xが単射であることも同じ必要十分条件である。
  3. すべてのφx\varphi_xが全射であることは、φ\varphiがエピ射であるための必要十分条件である。GGの切断が局所的にFFに持ち上がることも同じ必要十分条件である。
  4. モノ射かつエピ射である射は同型である。

証明.主張 (1)を示す。同型の茎による判定は§E20.1 定理 4.4 (3)による。射の一致は、各切断の像の芽が一致することと§E20.1 補題 4.3による。

主張 (2)を示す。層の核対は前層の核対である。§E9.8 命題 4.2のモノ射の判定を各点の極限に適用すると、モノ射であることは各成分の単射性に等しい。アーベル群でも台集合で核対を計算するので同じ結論を得る。成分の単射性と茎の単射性の一致は§E20.1 定理 4.4 (1)による。

主張 (3)を示す。茎の全射性と局所的な持ち上げの一致は§E20.1 定理 4.4 (2)による。茎ごとに全射なら、その射との合成が等しい二つの射は各茎で等しく、したがって等しいのでエピ射である。逆にあるφx\varphi_xが全射でないとする。集合の場合、Gx→{0,1}G_x\to\{0,1\}としてim⁡φx\operatorname{im}\varphi_xの特性関数と定値関数11をとる。アーベル群の場合、Gx→Gx/im⁡φxG_x\to G_x/\operatorname{im}\varphi_xの商写像と零写像をとる。いずれも異なる二つの写像がφx\varphi_xとの合成では一致する。命題 7.1 (3)の随伴の自然性により、異なる二つの層の射G→x∗AG\to x_*Aがφ\varphiとの合成で一致するので、φ\varphiはエピ射ではない。

主張 (4)は、茎の単射性・全射性と同型判定による。▨

例 8.2. 二重被覆z↦z2z\mapsto z^2の切断の層E\mathcal Eから終層11への射は、各茎で二元集合から一点集合への全射なのでエピ射である。しかし§E20.1 例 6.11によりE(S1)=∅\mathcal E(S^1)=\varnothingなので大域切断では全射でない。前層のエピ射は各点の全射であるため、包含ι\iotaはエピ射を保たない。アーベル群の場合にも、指数列の射hR→hU⁡(1)h_{\R}\to h_{\Uni(1)}が同じ現象を示す(§E20.2 命題 3.2、§E20.2 命題 3.3)。

9 エタール空間と層化

定理 9.1. 位相空間XXの上の局所同相写像を対象、XX上の連続写像を射とする圏をEt(X)\mathbf{Et}(X)と書く。

  1. 層のエタール空間をとる関手Et⁡:Sh(X)→Et(X)\operatorname{Et}:\mathbf{Sh}(X)\to\mathbf{Et}(X)は、切断の層をとる関手Γ:E↦ΓE\Gamma:E\mapsto\Gamma_Eを準逆とする圏同値である。自然同型はs↦s^s\mapsto\widehat sによるF→ΓEt⁡(F)F\to\Gamma_{\operatorname{Et}(F)}と、sx↦s(x)s_x\mapsto s(x)によるEt⁡(ΓE)→E\operatorname{Et}(\Gamma_E)\to Eである。
  2. この同値は、アーベル群の層と、各ファイバーにアーベル群の構造をもち演算が連続なエタール空間との同値に制限される。後者の射はファイバーごとに準同型であるXX上の連続写像である。

証明.主張 (1)を示す。射への対応と恒等射・合成の保存は§E20.1 系 2.8による。二つの表示した写像が同型であることは§E20.1 定理 2.7による。層の射φ\varphiについてφ(s)^=Et⁡(φ)s^\widehat{\varphi(s)}=\operatorname{Et}(\varphi)\widehat sなので第一の同型は自然である。XX上の連続写像h:E→E′h:E\to E'に対し、Γ(h)\Gamma(h)はs↦h∘ss\mapsto h\circ sであるから、芽を評価する第二の同型もhhと可換である。

主張 (2)は§E20.1 命題 3.6により、構成と二つの同型が加法を保つことから従う。▨

定理 9.2. 位相空間XXの前層のエタール空間の切断の層をP+P^+と書く。このとき、P↦P+P\mapsto P^+と、層化単位と可換な誘導射φ↦φ+\varphi\mapsto\varphi^+は関手を定め、(−)+⊣ι(-)^+\dashv\iotaである。単位は芽の切断を与える射η:P→ιP+\eta:P\to \iota P^+、余単位(ιF)+→F(\iota F)^+\to Fは同型である。アーベル群でも同じ随伴が成り立つ。

証明.§E20.1 定理 3.2 (2)により各ηP\eta_Pの普遍性を得て、§E20.1 定理 3.2 (4)により射の対応を得る。普遍性の一意性から両変数の自然性を得るので随伴となる。層における単位の同型性は§E20.1 定理 3.2 (3)により、余単位はその逆である。アーベル群については§E20.1 命題 3.6 (4)により、普遍性の射も準同型である。▨

系 9.3. 開集合の site の plus 構成による層化aaと、エタール空間による層化(−)+(-)^+には、単位を対応させる一意な自然同型がある。

証明.定理 6.2により終域と包含関手は同じである。二つの単位の普遍性によって両方向の射を定めると、合成は単位上で恒等射と一致するので、一意性により恒等射である。射についての自然性も同じ一意性による。▨

系 9.4. 位相空間XX上の集合またはアーベル群の層の小さい図式DDに対し、前層の余極限Q=colim⁡ιDQ=\operatorname{colim}\iota Dの層化Q+Q^+は層の余極限である。余錐の射はD(j)→εD(j)−1(ιD(j))+→Q+D(j)\xrightarrow{\varepsilon_{D(j)}^{-1}}(\iota D(j))^+\to Q^+である。層化と層の茎の関手は小さい余極限を保つ。

証明.定理 2.3と系 9.3により余極限の構成を得る。表示の射は余単位による同一視を明示した余錐である。層化は包含の左随伴、層の茎は命題 7.1 (3)の左随伴なので、いずれも余極限を保つ。▨

定理 9.5. 位相空間上の集合およびアーベル群の層化は有限極限を保つ。とくに前層の単射を層の単射に送る。

証明.定理 2.3の有限極限保存を系 9.3の自然同型で移す。モノ射の核対による判定から単射の保存を得る。標準射(lim⁡kPk)+→lim⁡kPk+(\lim_kP_k)^+\to\lim_kP_k^+の各茎は、層化が茎を変えないことと茎の有限極限保存により、lim⁡k(Pk)x\lim_k(P_k)_xの恒等写像に同一視される。この同一視は極限の射影と層化単位の自然性から定まる。▨

例 9.6.

  1. 前層の始対象は、空集合を含むすべての開集合で空集合を値とする。空被覆の貼り合わせ条件を満たさないので層ではない。その層化∅X\varnothing_Xは、空でない開集合で空集合、空集合で一点集合を値とし、層の圏の始対象である。これは空集合の定数層である。
  2. 終層二つの前層としての余積は二元集合の定数前層である。その層化は局所定数写像の層h{0,1}h_{\{0,1\}}である。X=RX=\R、U=(0,1)∪(2,3)U=(0,1)\cup(2,3)では、そのUU上の切断は四つあり、空集合上の切断は一つである。前層の余積の値はいずれも二元集合なので、包含ι\iotaは余積を保たない。

例 9.7.X={0}∪{1/n∣n≥1}⊆RX=\{0\}\cup\{1/n\mid n\ge1\}\subseteq\Rとし、各k≥1k\ge1に二元集合の定数前層QkQ_kをとる。このとき、(∏kQk)+(\prod_kQ_k)^+の大域切断は、離散集合{0,1}N≥1\{0,1\}^{\NN}への局所定数写像である。一方、∏kQk+\prod_kQ_k^+の大域切断は各座標が局所定数な写像である。

{1/k}\{1/k\}はXXの開閉集合なので、その特性関数fkf_kは局所定数である。しかしf=(fk)kf=(f_k)_kはf(0)=0f(0)=0、f(1/n)=enf(1/n)=e_nを満たし、零点のどの近傍でも定数でない。したがって標準射(∏kQk)+→∏kQk+(\prod_kQ_k)^+\to\prod_kQ_k^+は大域切断で全射でなく、同型でない。層化は無限積を保たない。

10 定数層

命題 10.1. 位相空間XXの定数層関手ΔX:S↦SX\Delta_X:S\mapsto S_Xは大域切断関手Γ(X,−)\Gamma(X,-)の左随伴である。すなわち

Hom⁡(SX,F)≅Map⁡(S,F(X))\operatorname{Hom}(S_X,F)\cong\operatorname{Map}(S,F(X))

が自然に成り立つ。アーベル群でもHom⁡(AX,F)≅Hom⁡Ab(A,F(X))\operatorname{Hom}(A_X,F)\cong\operatorname{Hom}_{\mathbf{Ab}}(A,F(X))であり、とくにHom⁡(ZX,F)≅F(X)\operatorname{Hom}(\Z_X,F)\cong F(X)である。大域切断は極限を保ち、SXS_Xは終層11のSS個の余積である。

証明.O(X)op\mathcal O(X)^{\mathrm{op}}の対象XXを指定する関手K:1→O(X)opK:\mathbf1\to\mathcal O(X)^{\mathrm{op}}をとる。XXから各対象への射は一つなので、§E9.15 命題 6.2の左 Kan 拡張は定数前層であり、定数前層関手はXXでの評価関手の左随伴である。この随伴を層化の随伴と補題 3.1によって合成すると、定数層と大域切断の随伴を得る。値の圏Set,Ab\mathbf{Set},\mathbf{Ab}の余極限は具体的に構成されるので、必要な Kan 拡張の選択も指定されている。

対応はφ:SX→F\varphi:S_X\to Fをs↦φX(ηX(s))s\mapsto\varphi_X(\eta_X(s))に送る。アーベル群でも同じ式であり、Hom⁡Ab(Z,F(X))≅F(X)\operatorname{Hom}_{\mathbf{Ab}}(\Z,F(X))\cong F(X)を用いると表示の同型を得る。右随伴として大域切断は極限を保つ。集合SSは一点集合のSS個の余積であり、左随伴ΔX\Delta_Xは余積を保つので、最後の主張が従う。▨

11 演習

問題 11.1.命題 2.2 (1)と命題 2.2 (2)を証明せよ。

解答.

代表[S,α]=[T,β][S,\alpha]=[T,\beta]は、ある被覆篩R⊆S∩TR\subseteq S\cap T上でα=β\alpha=\betaとなることを意味する。射ffに沿って引き戻すとf∗Rf^*Rは被覆であり、二つの引き戻した族もその被覆篩上で一致する。したがってP†(f)P^\dagger(f)は代表によらない。(fg)∗S=g∗f∗S(fg)^*S=g^*f^*Sと前合成の結合律から制限の恒等射・合成の条件を得る。前層の射u:P→Qu:P\to Qには[S,α]↦[S,uα][S,\alpha]\mapsto[S,u\alpha]を対応させる。この対応は制限、恒等射、合成を保ち、極大篩からの写像とも可換なので関手性とθ\thetaの自然性を得る。

x=[S,α]x=[S,\alpha]とし、f:W→Uf:W\to UがSSに属するとする。f∗S=hWf^*S=h_Wであり、引き戻した族は米田の対応の下でα(f)\alpha(f)に当たる。したがってx∣f=θP,W(α(f))x|_f=\theta_{P,W}(\alpha(f))である。アーベル群の場合の写像はすべて成分ごとの和を保つため、同じ証明が成立する。▨

問題 11.2.

  1. 命題 6.5を証明せよ。
解答.
  1. 局所性はP(U)→∏iP(Ui)P(U)\to\prod_iP(U_i)の単射性であり、貼り合わせの存在は整合的な族への全射性である。したがって層条件と等化子条件が一致する。篩による条件との一致は命題 1.2と定理 6.2による。空被覆では空積が一点集合なので、P(∅)P(\varnothing)が一点であるという条件を含む。小さくない添字の開被覆でも、実際の開集合の集合{Ui}⊆O(X)\{U_i\}\subseteq\mathcal O(X)は小さい。重複したUi=UjU_i=U_j上では整合性がsi=sjs_i=s_jを強制するため、代表を選ばずこの集合上の族に降ろして同じ条件を適用することができる。アーベル群の積と等化子は台集合で計算されるので同じ証明である。

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問題 11.3.

  1. 補題 3.1を証明せよ。
解答.
  1. 二つの随伴の Hom の全単射を合成する。各全単射は第一変数の前合成と第二変数の後合成に可換なので、その合成も両変数で自然であり、随伴の定義を満たす。idF′FA\mathrm{id}_{F'FA}は第一の対応でηFA′:FA→G′F′FA\eta'_{FA}:FA\to G'F'FAに移り、第二の対応でG(ηFA′)ηAG(\eta'_{FA})\eta_Aに移る。したがってこの合成が単位の成分である。

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問題 11.4.

  1. 層のエピ射が各茎で全射であることを、pushoutG⊔FGG\sqcup_FGと茎の余極限保存を用いて証明せよ。
解答.
  1. §E9.8 命題 4.2の双対により、φ\varphiがエピ射ならG→G⊔FGG\to G\sqcup_FGの二つの標準射は一致する。茎は余極限を保つので、Gx→Gx⊔FxGxG_x\to G_x\sqcup_{F_x}G_xの二射も一致する。集合では、im⁡φx\operatorname{im}\varphi_xの外の元の二つのコピーは pushout で同一視されない。したがってそのような元は存在せず、φx\varphi_xは全射である。アーベル群では pushout は(Gx⊕Gx)/{(φx(a),−φx(a))∣a∈Fx}(G_x\oplus G_x)/\{(\varphi_x(a),-\varphi_x(a))\mid a\in F_x\}である。二射の一致から各ggについて(g,−g)(g,-g)が表示の部分群に属するので、あるaaに対しg=φx(a)g=\varphi_x(a)となる。

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参考文献

  1. The Stacks Project Authors, The Stacks Project.

前提記事

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